陕西东吉金属科技股份有限公司
钼靶材

 钼靶材(图1)

钼靶材的产品参数:

牌号:361, 364,Mo1, TZM, MLa

标准: GB/T3876-83, ASTM B386

纯度: 纯钼 ≥99.95%,高温钼Mo≥99.% , La2O3

密度: 10.1g/cm3

熔点:2610℃

钼靶材表面:磨光

钼靶 密度10.1g/cm3

钼靶熔/沸点:2610℃/5560℃。

钼靶材纯度:99.95% ,99.99%


规格:圆形靶,板靶,旋转靶 (可根据客户需求以及图纸定制生产)

钼靶材分类:磁控溅射镀膜靶材,薄膜电阻靶材、导电膜靶材

钼靶材用途:钼材料主要用在真空高温行业,电子行业,蓝宝石热场及航空航天制造行业等,钼材料经过变形量达到60%以上的轧制加工后,钼的密度基本上接近于理论密度,因此其具有高强度,内部组织均匀和优良的抗高温蠕变性能,被广泛应用于生产蓝宝石晶体生长炉内的反射屏,盖板真空炉内的反射屏,发热带,连接件,等离子镀膜用的溅射靶材,耐高温舟皿等制品,以及在航空、航天工业、医疗器械等域有广泛应用。

溅射靶材用于磁控溅射镀膜,溅射镀膜是种新型的物理气相镀膜(PVD)方式。溅射镀膜的主要应用于:平板显示器、镀膜玻璃工业(主要包括建筑玻璃、汽车玻璃、光学薄膜玻璃等)、薄膜太阳能、 表面工程(装饰&工具)、(磁、光)记录介质、微电子、汽车车灯、装饰镀膜等。

钼靶材(图2)

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